TEM标本准备

TEM标本准备
MFA,KFKI校园,建筑物25。
联系人:ÁrpádBarna,barna.arpad @ Energia.mta.hu

透射电子显微镜标本应足够薄(抚摸10 - 100 nm),以渗透100-200 kV电子。这可以通过特异性(化学或电抛光)或通用(机械,离子束)变薄的方法来进行海滩。对于异质样品 - 例如横截面标本 - 仅后一种技术是合适的。在MFAA范围内,已经开发了特殊制备方法和设备,或者主要基于离子铣削方法获得。在以下材料中,可用设备根据(横截面)标本制备的技术顺序列出,这些设施特别感兴趣地使用了使用的半导体和多层材料。

V3离子磨机由

Technoorg-Linda Co

离子磨

材料科学,地质,半导体和光学工业领域的广泛应用范围,例如多层必威体育官网平台系统,半导体,高TC超级孔 - 导向器,钻石,复合材料,金属,陶瓷,眼镜,岩石,矿物质。必威betway提款
•计划和横截面标本进行TEM调查
•SEM的坡度切割标本



主要特点:
•由于特殊的样品架设计,可以执行扫视角轰击(〜1°)。可以通过低轰炸角来实现极端的表面平滑度。
•快速样本交换。
•两个独立的水冷离子枪以2-10 kV运行。易于维护。
•在不同加速电压下,两侧稀疏的双光束调制系统。
•准备大面积(> 104 mm2),准备透明区域。
•延迟现场操作(通过内置必威体育官网平台的高压单元)是标准功能。通过应用此方法,可以实现低于1°的角度。可以以这种方式进行凹痕样品的无阴影变薄。
•高铣削速率(可以达到300毫米/小时在30°的硅)中。
•可以在穿孔时自动或手动终止离子铣削。

选项:
•低能离子枪
•液氮冷却
•反应性离子铣削